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產地類別	國產	應用領域	化工,綜合

精簡薄膜厚度測量特性分析系統

FR-ES: 精簡薄膜厚度測量特性分析系統

精簡薄膜厚度測量特性分析系統

FR-ES 機型設計在以較小的占地面積提供涂層表征性能。它廣泛應用于各種不同的測量應用：薄膜厚度、折射率、顏色、透射率、反射率等等。有下列波長范圍 FR-ES 配置可用:

VIS/NIR (380-1020nm), UV/NIR (200-850nm), UV/NIR-EXT (200-1000nm), UV/NIR-HR (190-1100nm) NIR-N1 (850-1050nm),

NIR (900-1700nm).

D VIS/NIR (380-1700nm)

依照不同樣品形狀尺寸還有各種各樣的配件，例如

§ 濾光片可阻擋某些光譜范圍內的光

§ FR-Mic 提供微米級別區域進行測量

§ 手動載物臺, 100x100mm或 200x200mm

§ 薄膜/比色皿支架用于吸光度/透射率和化學濃度測量的薄膜/比色皿支架

§ 積分球用于漫反射和全反射反射率測量

FR-ES 規格(標準配置) *

精簡薄膜厚度測量特性分析系統配件

精簡薄膜厚度測量特性分析系統

聚焦模塊	安裝在反射探頭上的光學模塊，用于直徑 <100μm 的光斑尺寸
透射率模塊	用于透射率/吸光度測量的光學模塊
膜厚/比色皿套件	標準比色皿中的薄膜或液體進行透射測量
接觸探頭	曲面樣品的反射率和厚度測量
顯微鏡	具有高橫向分辨率的基于顯微鏡的反射率和厚度測量
手動X-Y平臺	手動 X-Y 平臺，用于測量 25x25mm /100x100mm / 200x200mm 區域

精簡薄膜厚度測量特性分析系統 * 規格如有變更，恕不另行通知； ** 厚度范圍取決于光譜范圍，是指硅基板上折射率約為 1.5 的單層薄膜 ** 與校準的光譜橢偏儀和 XRD 進行比較的測量結果，15 天內平均值的標準偏差的平均值。樣品：Si 上 1μm SiO2，100 次厚度測量的標準偏差。樣品：Si 上 1μm SiO2，2*15 天內日平均值的標準偏差。