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產品簡介
它可以對氨干式脫硝裝置排放出來的尾氣中的殘留NH3濃度進行連續檢測。采用了無漂移新型化學發光法分析儀（CLA），檢測器實現了高度化。
詳細介紹
概要
它可以對氨干式脫硝裝置排放出來的尾氣中的殘留NH3濃度進行連續檢測。采用了無漂移新型化學發光法分析儀(CLA)，檢測器實現了高度化。并且，由于使用了半導體傳感器，所以工作奉命長。分析部和操作部的功能集中統一，采用了在前面進行操作方式，并且完善了自我診斷功能等，力求使用便利。可監測脫硝催化劑的劣下、限制NH3的注入量、防止硫酸銨結晶物的生成等，在設備的監測、控制方面可以發揮出威力 。
特征
搭載有無漂移新型化學發光法分析儀(CLA)。
實現了NH3、NOxzui小量程0〜10ppm。
采用了利用氧氣常磁性的劃時代磁壓方式的氧氣分析儀。實現了優異的耐久性、高精度、高速響應。
具有從低濃度到高濃度的大范圍量程。
采用了大幅提高了操作性的前面操作方式。
具有可通過微機對檢測狀態進行監測、控制、運算處理、存儲等功能，容易使用，更加方便進行維護。
完善的自我診斷功能
還可以*設置條件多樣化的需求。
HORIBA煙氣中NH3分析系統ENDA-C2000的規格
檢測成分和量程
NH3:
(標準量程)20〜100ppm
(可選項量程)10ppm〜20ppm以下
(量程比)10倍以內
NOx:
(標準量程)20〜100ppm
(可選項量程)10ppm〜20ppm以下
(量程比)10倍以內
O2:
(標準量程)5〜25vol%
(量程比)5倍以內
(量程數各成分zui大3量程)
再現性
±0.5FS％、如果包括可選項量程時，±1.0FS％(周圍溫度、-５〜40℃的情形)
響應速度
裝置入口:T90、90秒以下
校正氣體入口:T90、70秒以下