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鄭州歐諾儀器有限公司

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HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋技術簡介

閱讀:908      發布時間:2023-12-21
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HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋技術簡介:HW.SY11-KP3適用范圍:本產品、科研單位、實驗室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學品、生物制品、檢查血清和生化實驗,恒溫培養以及對注射器和小型手術器械進行煮沸消之用

適用范圍

本產品、科研單位、實驗室蒸餾、濃縮干燥及恒溫加熱化學品、生物制品、檢查血清和生化實驗,恒溫培養以及對注射器和小型手術器械進行煮沸消之用。

HW.SY11-KP3三孔三溫水浴鍋技術簡介技術參數

型號:HW.SY11-KP3(三孔三溫)

規格:智能

功率:900W

控溫范圍:室溫+5℃~99.9℃

水溫波動性、水溫均勻性:≤±0.5℃

水槽尺寸(mm):(150×140×90)×3

特點

   產品的內膽、外殼均采用優質不銹鋼拉絲板材,溫控系統采用微機PID智能控制,感熱性能強、靈敏度高、水溫波動性、水溫均勻性在±0.5℃范圍內



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