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復納科學儀器(上海)有限公司

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當前位置:> 供求商機> VSP-G1-VSParticle 全自動納米研究平臺

[供應]VSP-G1-VSParticle 全自動納米研究平臺

貨物所在地:上海上海市

產地:荷蘭

更新時間:2025-01-06 21:00:07

有效期:2025年1月6日 -- 2025年7月6日

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VSParticle 全自動納米研究平臺致力于提供快捷的納米材料研究方式,團隊基于“火花燒蝕"技術將導電靶材快速轉換為納米氣溶膠,為您解鎖納米材料研究新方案。

納米粒子發生器


VSP-G1 是桌面式的納米氣溶膠粒子發生器,可產生 0~20nm 的納米氣溶膠,可適用于 60 多種元素的導電材料,可用于制備:納米金屬、合金、氧化物,部分半導體及碳材料。


VSParticle 全自動納米研究平臺


沉積配件


擴散配件:利用小擴散作用收集分散性良好的納米粒子,可支持多種二維材料基底表面的單分散或低覆蓋率沉積



過濾配件:利用靜電吸附及攔截作用,可將納米氣溶膠粒子沉積在基底表面及內部,可支持多孔材料基底的高覆蓋率沉積



沖壓配件:將納米氣溶膠通過泵的作用沉積在基底表面,可得到多孔層狀材料,可應用于局部沉積及形狀打印



VSParticle 全自動納米研究平臺規格


  1. 基于火花放電技術的氣溶膠發生器,基于物理法產生納米氣溶膠,無雜質與模板劑

  2. 智能化操作,只需控制三個按鈕即可完成全自動運行

  3. 常溫常壓工作環境,火花溫度 20000K

  4. *普適性,適用于 60 多種元素的導電材料的氣溶膠生成,靶材可向多數濺射靶材生產商定制

  5. 典型氣溶膠顆粒粒徑:0~20nm

  6. 多接口多氣路,可與其他設備形成有效聯用


應用


粉末包覆


VSP-PC 可利用 VSP-G1 產生的納米粒子對常規的粉末材料進行表面點綴與包覆,可實現多批次簡單包覆和單批次大量包覆。



3D 打印


利用 VSP-P1 可在各種基底表面進行大比表面積材料沉積,構造結構材料,可應用于電路印刷,傳感器制造等。


圖片3.png


粒徑篩選


利用 VSP-S1 可對 G1 產生的氣溶膠進行精準篩選,并將單分散粒徑的顆粒沉積在基底表面。目前可實現 0~10 nm 之內的顆粒篩選,精度 0.5nm。


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