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| 產地類別 | 進口 | 儀器種類 | 其他摩擦磨損試驗機 |
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工藝與材料表征系統 TriboLab CMP
核心參數
儀器種類：多功能摩擦磨損試驗機 最大摩擦力：200N
摩擦力分辨率：10mN 最高溫度：1000℃
簡介
布魯克公司的TriboLab CMP系統結合了超過20年的CMP領域專業(yè)知識，為工藝開發(fā)提供了高精度和高重復性的解決方案。該系統能夠模擬廣泛的拋光條件，并具備全面的測量功能，包括摩擦力、聲發(fā)射和表面溫度等。其靈活的設計允許對各種材料和樣品尺寸進行測試，特別適合研發(fā)階段使用，能夠在小樣品上實現詳細的表征，節(jié)省成本并提高效率。
TriboLab CMP 利用其前身產品 （Bruker CP-4） 超過 20 年的 CMP 領域專業(yè)知識，為業(yè)界的 TriboLab 平臺帶來了一套完整的功能。基于本套設備產生的高精度和高可重復性使得在整個 CMP 流程中能夠進行高效的鑒別、檢查和連續(xù)功能測試。TriboLab CMP 是市場上能夠提供廣泛的拋光壓力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、聲發(fā)射和表面溫度測量的工藝開發(fā)工具，可準確、完整地描述 CMP 工藝和耗材。
用于 CMP 的小型研發(fā)規(guī)模專業(yè)系統
布魯克的TriboLab CMP工藝和材料表征系統是專為晶圓拋光工藝而設計，是具有可靠、靈活和高效的臺式設備。
重現全尺寸晶圓拋光工藝條件，無需在生產設備上停機
提供的測量可重復性和細節(jié)檢測
允許在小樣品上進行測試，比全晶圓測試節(jié)省大量成本
板載診斷系統可以更好地了解拋光過程
比市場上任何其他系統提供更多的瞬態(tài)拋光過程的參數
從接觸拋光盤開始直至整個測試過程都能收集數據
通過更完整、更詳細的數據實現早期流程開發(fā)決策
具有靈活的樣品類型、尺寸和安裝配置
拋光任何平面材料，幾乎能使用任何修正盤，任何拋光液，和任何拋光墊
輕松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圓
可同時安裝多個樣品，測試更靈活
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