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等離子干蝕刻
  • 等離子干蝕刻
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  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 廠商性質 經銷商
  • 所在地 北京市
屬性

應用領域:環(huán)保,化工,電子/電池

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更新時間:2024-07-10 13:54:04瀏覽次數:850評價

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應用領域 環(huán)保,化工,電子/電池
等離子干蝕刻是從另一種材料的表面去除材料的過程。該過程是由於于激發(fā)離子與材料的碰撞而發(fā)生的,無需使用任何液體化學藥品或蝕刻劑即可將其除去。

等離子干蝕刻介紹:

乾蝕刻又被稱為等離子干蝕刻,是從另一種材料的表面去除材料的過程。該過程是由於激發(fā)離子與材料的碰撞而發(fā)生的,無需使用任何液體化學藥品或蝕刻劑即可將其除去。它比一般濕式蝕刻製程更具等向性或非等向性,有助於減少蝕刻的失誤率。

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由於等離子乾蝕刻比濕蝕刻具有等向性蝕刻以創(chuàng)建高深寬比結構的特能力,因此目前在印刷電路板和半導體製造製程中皆使用乾蝕刻。且此過程是安全的,無對環(huán)境有危害性。乾蝕刻還適合於大規(guī)模生產,同時仍具有合理的尺寸。

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