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首頁>>北京瑞科中儀科技有限公司>>產品展示>>沉積系統>>原子層沉積設備

  • 沉積系統 參考價：面議

    三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發的要求。樣品可以通過預真空室和/或...
    型號： 廠商性質：經銷商所在地：北京市 對比
    等離子多腔系統沉積多腔系統沉積系統
    2024/7/10 8:51:01992

  • SENTECH二維材料刻蝕 參考價：面議

    SENTECH二維材料刻蝕能夠在低溫100°C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊。
    型號： 廠商性質：經銷商所在地：北京市 對比
    原子層沉積設備原子層沉積設備廠家SENTECH二維材料刻蝕SENTECH二維材料刻蝕
    2024/7/10 8:29:281169

  • 原子層沉積設備 參考價：面議

    原子層沉積設備：真遠程等離子體源能夠在低溫100°C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應性氣體，而不受紫外線輻射或離子...
    型號： SENTECH 廠商性質：經銷商所在地：北京市 對比
    原子層沉積設備原子層沉積設備廠家
    2024/7/10 7:36:021292
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