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目錄:上海微科生物技術有限公司>>德國PAN>>培養基>> 間充質干細胞無血清培養基P04-77350K

間充質干細胞無血清培養基P04-77350K

  • 間充質干細胞無血清培養基P04-77350K
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更新時間:2025-04-09 10:44:40瀏覽次數:854評價

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間充質干細胞無血清培養基P04-77350K適用于造血干細胞培養,即用型PowerStem HPSC。

間充質干細胞無血清培養基P04-77350K適用于造血干細胞培養,即用型PowerStem HPSC。

間充質干細胞無血清培養基P04-77350K儲存方法:2-8℃

應用:

應用于人來源的T細胞培養擴增,培養基需要添加刺激性抗體和細胞因子,另外每升培養基需要添加20ml 200mM的L。

操作: 

平板培養: 

1.  按照已確定的方法來準備新鮮或者凍存的  PBMNCs (外周血單個核細胞)   

2.  用血計數器計數細胞數量


3.  轉移適當數量的細胞到含有培養基(已加入細胞因子和刺激抗體)的培養瓶中 

4.  把培養瓶放入培養箱中,  37°C  ,  5% CO2 培養. 


產品特性: 

Nobimpex 無血清 T 細胞培養基  (Product number N103-1000)  已經經過嚴格的測試可用于 PBMNC 中的 T 細胞擴增。本產品已與其他幾種商業化可用的無血清培養基做了 T 細胞擴增比較。實驗中,200,000 PBMNCs/ml 在本產品和另一商業化培養基中培養 7  天,培養基含有  100 IU/ml IL-2  和 anti-CD3 (OKT3, 20ng/ml)  抗體。. 

 

實驗中擴增的 T-細胞使用  51 鉻釋放分析來測試細胞溶解能力。靶細胞  (K562,  人慢性白血病細胞),  使用 51  鉻標記并連接到 anti-CD3 (OKT3) Fc  受體.。當與效應或者細胞毒  T 細胞混合時,,靶細胞就會凋亡或者溶解,并釋放 51 鉻.。上清中 51 鉻的釋放量與靶細胞的死亡及功能 T 細胞的數量成正比。


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