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目錄:科睿設(shè)備有限公司>>半導體材料表征>> 深能級瞬態(tài)譜儀-半導體表征

深能級瞬態(tài)譜儀-半導體表征
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更新時間:2025-02-27 14:44:25瀏覽次數(shù):2491評價

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深能級瞬態(tài)譜儀-半導體表征
半導體領(lǐng)域研究和檢測半導體雜質(zhì)、缺陷深能級、界面態(tài)等的重要技術(shù)手段。根據(jù)半導體P-N 結(jié)、金-半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容(△C~t)技術(shù)和深能級瞬態(tài)譜(DLTS)的發(fā)射率窗技術(shù)測量出的深能級瞬態(tài)譜

深能級瞬態(tài)譜儀-半導體表征

深能級瞬態(tài)譜儀(DLTS)
    深能級瞬態(tài)譜(Deep Level Transient Spectroscopy)是半導體領(lǐng)域研究和檢測半導體雜質(zhì)、缺陷深能級、界面態(tài)等的重要技術(shù)手段。根據(jù)半導體P-N 結(jié)、金-半接觸結(jié)構(gòu)肖特基結(jié)的瞬態(tài)電容(△C~t)技術(shù)和深能級瞬態(tài)譜(DLTS)的發(fā)射率窗技術(shù)測量出的深能級瞬態(tài)譜,是一種具有*檢測靈敏度(檢測靈敏度通常為半導體材料中摻雜濟濃度的萬分之一)的實驗方法,能檢測半導體中微量雜質(zhì)、缺陷的深能級及界面態(tài)。通過對樣品的溫度掃描,可以給出表征半導體禁帶范圍內(nèi)的雜質(zhì)、缺陷深能級及界面態(tài)隨溫度(即能量)分布的DLTS 譜。集成多種全自動的測量模式及全面的數(shù)據(jù)分析,可以確定雜質(zhì)的類型、含量以及隨深度的分布。
    Semetrol DLTS集成多種自動的測量模式及全面的數(shù)據(jù)分析,可以確定雜質(zhì)的類型、含量以及隨深度的分布,也可用于光伏太陽能電池領(lǐng)域中,分析少子壽命和轉(zhuǎn)化效率衰減的關(guān)鍵性雜質(zhì)元素和雜質(zhì)元素的晶格占位,確定是何種摻雜元素和何種元素占位影響少子壽命。該儀器測量界面態(tài)速度快,精度高,是生產(chǎn)和科研中可廣為應用的測試技術(shù).

主要特點 :
• 自動連線檢測;
• 自動電容補償功能;
• 探測靈敏度高
• 瞬態(tài)電流測量;
• 傅里葉轉(zhuǎn)化功能;
• 深能級瞬態(tài)譜分析;
   
應用領(lǐng)域 :
•檢測Si、ZnO、GaN等半導體材料中微量雜質(zhì)、缺陷的深能級及界面態(tài)。



深能級瞬態(tài)譜儀-半導體表征

Semetrol DLTS系統(tǒng)配置:
- 脈沖發(fā)生器
電壓范圍: ±20.4 V (±102 V opt.)
脈沖寬度:1 µs - 1000 s
- 電容測量
高頻信號100 mV @ 1 MHz (20 mV 可選)
電容范圍 [pF] 3, 30, 3000 3000 (自動或手動)
靈敏度 0.01 fF
- 電壓測量:
范圍 ±10 V
靈敏度 < 1 µV

溫度范圍:30K~450K
電阻范圍:0.1 mOhm - 10 GOhm



多種測量模式:
  C-DLTS(電容模式)
  CC-DLTS (定電容模式)
  I-DLTS (電流模式)
  DD-DLTS (雙關(guān)聯(lián)模式)
  Zerbst-DLTS (Zerbst模式)
  O-DLTS (光激發(fā)模式)
  FET-Analysis (FET分析)
  MOS-Analysis (MOS分析)
  ITS (等溫瞬態(tài)譜)
  Trap profiling
  CCSM(俘獲截面測量)
  I/V,I/V(T) (查理森Plot分析)
  C/V, C/V(T)
  TSC/TSCAP
  PITS (光子誘導瞬態(tài)譜)
  DLOS (特殊系統(tǒng))


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