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多弧離子鍍與磁控濺射,蒸發鍍之間的區別

時間:2009/7/29閱讀:15125
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多弧離子鍍與磁控濺射,蒸發鍍之間的區別(轉載自光學在線)

 
是轉載的說法,有不對的地方請擔待并指正。三者的區別在于工作原理不同

蒸發鍍:通過蒸發鍍加熱使膜材蒸發。蒸發鍍有電阻加熱式、電子束加熱式、感應加熱式。

磁控濺射鍍:磁控靶是靜止電磁場,磁場為曲線形,以磁場改變電子運動方向,是展于高密度的等離子體異常輝光放電。其特點是濺射能量低,基本溫度低。

多弧離子鍍:多弧靶是電弧蒸發源,是冷陰極電弧放電型自持自離化的固體蒸發源。其特點是離子能量高,沉積速率高,膜層改密性高,單固性好。

蒸發鍍主要做玻璃和塑膠,俺不懂,毛主席老人家說得好,沒有調查就沒有發言權.在此說說磁控和多弧
磁控能對多種金屬進行濺射,膜厚和顏色比較容易控制,膜層顆粒細能滿足良好外觀要求.沉積時間較長,膜層耐磨性不如多弧.
多弧的優點就是磁控的缺陷,還有就是對有些靶材鍍出來外觀效果不理想如金,不銹鋼等
不過二者結合起來用的也大有人在.

塑膠產品CPC或ABS材料表面裝飾性鍍膜,若要單固性好些就要采用磁控濺射鍍;若要表面光亮些就有蒸發鍍

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