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PL/RT PLE-EL-低溫宏觀光致發光成像系統
  • PL/RT PLE-EL-低溫宏觀光致發光成像系統
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貨物所在地:上海上海市

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更新時間:2025-03-15 21:00:07

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低溫宏觀光致發光系統是專業低溫光致發光研究設計的宏觀光致發光測量系統,廣泛用于宏觀PL/RT PLE&EL,PL光致發光成像。

低溫宏觀光致發光系統是專業低溫光致發光研究設計的宏觀光致發光測量系統,廣泛用于宏觀PL/RT PLE&EL,PL光致發光成像。
低溫宏觀光致發光系統測量功能
低溫宏觀光致發光研究PLE
宏觀光致發光研究
宏觀光之發光激發和吸收
宏觀PLE mapping和透過率/反射率測量
低溫宏觀光致發光系統
低溫宏觀光致發光系統應用
半導體特性研究和測試(GaN/SiC/III-V材料)
MEMS器件測試
NIR CCD傳感器研發
寶石光致發光,鉆石HPTP,珍珠發光研究
深紫外激光二極管,PD研發(AlGaN)
TDIPL量子效率測試
能級測量,吸收和合并特性研究
低溫宏觀光致發光系統特色
緊湊模塊化設計
可選時間快門門控選通系統,100~10000倍信號增強
兼容時間相關單光子計數TCSPC技術
低溫宏觀光致發光系統應用規格參數
探測范圍:200-6000nm
系統分辨率:0.045nm@1200gr/mm光柵
系統分辨率:0.09nm@1200gr/mm 光柵
光譜儀:Czerny-Terner,320mm焦距(可選750mm焦距),雜散光濾除:10^-5,精度:+/-0.2nm,驅動步進分辨率:0.0025nm
探測器:R955/R928 PMT探測器(可選TE制冷高性能CCD/光電二極管)
激光控制:0.1%~100%(多達6種激光功率水平)
激光激發:深紫外UV~近紅外NIR
光源:450W Xe燈,激發單色儀:200mm焦距,0.2nm分辨率
樣品室:彩色球形校正鋁鏡用于輸入光源,單個XY旋轉手動位移臺優化樣品定位,可選比色皿架用于低溫測量,可選時域測量功能
自動控制:(可選)軟件控制激光濾波片,步進電機掃描塔
信噪比:3000:1或更高(水拉曼光譜,350nm激發)
軟件:選擇單色儀,光柵,轉塔,波長范圍,分辨率,積分時間可選



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