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EB-4P-電子束蒸發(fā)系統(tǒng),電子束沉積系統(tǒng)
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更新時(shí)間:2024-12-16 10:48:16

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電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P也是電子束沉積系統(tǒng),有四個(gè)容量不同的袖珍坩堝和各種電源,可以添加熱阻源或直流和射頻濺射或蝕刻。

電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P也是電子束沉積系統(tǒng),有四個(gè)容量不同的袖珍坩堝和各種電源。
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P*可定制,腔室可以設(shè)計(jì)成接受額外的PVD源。未使用的端口用法蘭堵塞,以便以后添加。準(zhǔn)備好后,可以添加熱阻源或直流和射頻濺射或蝕刻。
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P是納米技術(shù)、光學(xué)、顯微鏡、分子束外延、功能和裝飾涂層等應(yīng)用中沉積金屬、氧化物、磁性材料和電介質(zhì)的理想選擇。
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P專為實(shí)驗(yàn)室或研發(fā)、中試生產(chǎn)、大學(xué)研究或小規(guī)模生產(chǎn)量身定制。緊湊的結(jié)構(gòu)使其成為潔凈室應(yīng)用的理想選擇。
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P可生產(chǎn)多種材料的均勻粘附薄膜。電子束蒸發(fā)可在低污染的情況下產(chǎn)生優(yōu)異的速率控制沉積,并具有多軸旋轉(zhuǎn)能力,可在任何尺寸或形狀的樣品上獲得良好均勻性。
電子束蒸發(fā)系統(tǒng)EB-4P特點(diǎn)
電拋光不銹鋼腔室(D形盒)
帶手動(dòng)快門的前門上的4“直徑觀察口
帶水冷坩堝的單/多槽電子束源(從4cc到75cc)
帶X-Y掃描控制器的高壓電源(3kW至15kW)
匹配雙級(jí)渦輪分子真空泵系統(tǒng)
旋轉(zhuǎn)葉片泵
帶沉積控制器的石英晶體厚度傳感器
帶數(shù)字顯示和讀數(shù)的全量程真空計(jì)
半自動(dòng)控制系統(tǒng)
可選項(xiàng)目
冷水機(jī)
具有樣本傳輸適應(yīng)性的負(fù)載鎖定系統(tǒng)
多軸基板臺(tái)旋轉(zhuǎn)
石英燈加熱器(從300°C到800°C)
行星基臺(tái)
PLC控制系統(tǒng)
PC控制系統(tǒng)
水冷基板級(jí)
SQC 310膜厚監(jiān)測器和沉積控制器
電動(dòng)快門組件
大容量坩堝及電源
干式渦旋泵
低溫泵送系統(tǒng)
冷陰極或熱陰極電離計(jì)
可調(diào)尺寸和高度,適用于基板平臺(tái)
用于未來升級(jí)的額外備用法蘭
帶數(shù)字讀數(shù)的質(zhì)量流量控制器
射頻清洗能力
現(xiàn)場掩模變換器

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