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離子束沉積系統IBD采用真空沉積工藝，使用直接聚焦在濺射靶上的寬束離子源實現離子束沉積濺射鍍膜。然后，來自靶材的濺射材料沉積在附近的襯底上形成薄膜。
一些應用將使用濺射靶材的組件，該組件可被索引以創建多層薄膜。大多數IBD應用將使用第二個離子源IBAD來控制和增強濺射膜的性能。
離子束沉積系統IBD特點
電拋光不銹鋼腔室（D形盒）
帶手動快門的前門上的4“直徑觀察口
匹配雙級旋轉葉片泵的渦輪分子真空泵系統
帶會聚束離子源和電源的離子束沉積，易于安裝靶材
具有發散束離子源和電源的離子束輔助沉積
帶沉積控制器的石英晶體厚度傳感器
帶數字讀數的質量流量控制器
帶數字顯示和讀數的全量程真空計
半自動控制系統
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