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光致發光光譜測量儀是具有顯微光致發光掃描mapping功能的顯微光致發光熒光光譜儀器,廣泛用于顯微/宏觀PL/RT PLE&EL,PL光致發光成像。
光致發光光譜測量儀測量功能
室溫顯微光致發光和光致發光掃描mapping
室溫顯微光致發光激發（吸收）
低溫顯微光致發光PL
室溫厚度測量
光致發光光譜測量儀應用
SiC結構缺陷（如SFs堆垛層錯,TDs三角形缺陷）
半導體特性研究和測試（III-V材料）
GaN/ZnO LED晶圓表面分析（表面污染,表面不均勻,反射率和厚度測試）
NIR CCD傳感器研發
熱電偶器件研發
LED材料研發
TDIPL & IQE測試
III-V材料光致發光分析測試
光致發光光譜測量儀規格參數
探測范圍：200-5000nm
系統分辨率：0.045nm@1200gr/mm光柵
CCD分辨率：0.08nm@1800gr/mm 光柵
空間分辨率：1um （其它分辨率可提供）
攝譜儀：1024x256像素格式，大95%QE,-100攝氏度TE制冷,暗電流0.0005e-/像素/秒
探測器：TE制冷高性能CCD/PMT/光電二極管
激光控制：0.1%~100%（多達6種激光功率水平）
激光激發：深紫外UV~近紅外NIR
樣品臺：XY掃描臺行程76mm x 52mm, 重復精度<1um,分辨率：0.1um
視圖系統：樣品成像，輸入光束定位監測，大1600X數字圖像CCD相機IEEE1394接口
物鏡：光譜范圍200-1700nm, 10X,50x,100X
光斑大小：<1um@100x物鏡
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