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無掩膜光刻機,進口無掩模光刻機
  • 無掩膜光刻機,進口無掩模光刻機
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貨物所在地:上海上海市

地: 歐洲

更新時間:2024-08-22 17:03:20

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這套無掩膜光刻機具有無掩模光刻技術的便利,大大提高無掩膜影印和新產品研發的效率,節省時間,是*的無掩模光刻系統。

這套無掩膜光刻機具有無掩模光刻技術的便利,大大提高無掩膜影印和新產品研發的效率,節省時間,是的無掩模光刻系統
這款無掩模光刻機直接用375nm405nm紫外激光把圖形寫到光膠襯底上。
無掩模光刻系統,無掩膜光刻機特色
尺寸:925x925x1600mm
內置計算機控制接口
激光光源:375nm405nm
視頻輔助定位系統
自動聚焦設置

無掩模光刻機,無掩膜光刻機參數
線性寫取速度:>500mm/s
重復精度: 100nm
晶圓寫取面積:16英寸
襯底厚度:250微米-10毫米
激光點大小:1-100微米
準直精度:500nm




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