快速加熱高溫真空爐HTFF1能夠對樣品快速加熱,精確控制氣體環境,是材料科學研究的快加熱真空高溫爐,它提供高達1500℃的材料熱處理溫度,并能將微小樣品插入到恒溫加熱區快速加熱,材料研究實驗周期可以有效縮短。
快速加熱高溫真空爐HTFF1具有石墨或氧化鋁可移動棒樣品保持器,可用于在各種氣體環境下操作以控制樣品環境。

HTFF1樣品棒中心可快速加熱至900℃，穩定在在10%溫度范圍內。并且可提供在2分鐘內虧啊蘇加熱到1200攝氏度，然后將溫度降至900°C的模式

HTFF1采用同心套絕緣氧化鋁/氧化硅管包含軸向取向的碳化硅硅碳棒發熱。端部支撐法蘭在較高的工作溫度下水冷。氧化鋁工藝室為客戶提供潔凈、干燥、可控的大氣環境。穩定，可編程溫度控制，可提供手動或自動系統。

其他尺寸可供選擇。

HTFF1規格

優點

所有的電阻加熱爐需要時間加熱，從根本上限制樣品的加熱速率。TvU的快速爐插入樣品已經成為一個熱爐，實現較大可能的加熱速度。只有輻射爐或燃燒爐才能提供有競爭力的加熱速率。