目錄:孚光精儀（中國）有限公司>>光學精密儀器>>等離子物理>> 高精度光刻曝光機
| 產地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫療衛生,化工,生物產業,石油 |
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高精度光刻曝光機是掩模對準曝光機,Mask aligner，是光掩膜板和硅片對準的紫外曝光機。它支持高精度掩模運動，具有光刻機精密光學對準系統，高精度光刻曝光機是光刻應用中非接觸的性產品。
高精度光刻曝光機特點
光刻曝光機可用于直徑達6英寸的晶圓片。
“用于多產品生產領域的研究和發展"。
“前沿技術"。
采用*非接觸式掩模對準系統。
掩模對準時不會損壞掩膜和晶圓。
間隙精度顯著提高。
電腦監控采用交互式操作。
根據“輔助線"可以進行高精度定位。
掩模對準曝光機SMA-600M是用于研發和多種產品生產領域的手動紫外曝光機，采用了清晰的光學系統和*非接觸式校準裝置。通過接觸或靠近模式，晶圓曝光可達150mm。該紫外曝光機系統對于各種電子設備，例如化合物半導體的LD，LED，和微型機械的制造過程，包括壓力傳感器等來說，是曝光過程的。
經濟型，緊湊型和高級別性能的光刻機
視圖中聚焦圖像可看到兩個校準標記。
曝光用集成鏡頭。
LED照明燈
高精度光刻曝光機應用
（研發中心和大學的微機械發展）
驅動器，壓力傳感器，加速度傳感器，電力設備等。
用于倒裝芯片/ BGA/ CSP的曝光。
用于光學/高速通信組件的曝光。
高精度光刻曝光機規格
| Alignment Scope | |
| 目標分離 | 15 ~ 75mm |
| 總放大倍數 | 100X |
| 觀察用的照明燈 | 紅色 LED (l=633 nm) |
| 工作臺的X，Y軸的移動范圍 | ±5 mm |
| 調整 | ±5° |
| Utility | |
| 主機和汞燈的電源 | AC 100V 50/60Hz 15A |
| 真空源 | 低于 21.3 Kpa (從大氣壓到-80 Kpa ) |
| Exposure Unit | |
| 鏡頭 | 集成鏡頭 |
| 汞燈 | 250W 超高壓蒸汽汞燈 |
| 有效曝光區域 | zui大 100 mm |
| 強度分布 | ±5% 或更少 |
| 照明強度 | 20 mW/cm2 (405 nm) |
| 曝光時間控制 | 數字定時器和旋轉電磁閥 |
| 汞燈照明單元 | AC 110V |
| MPEM-16M （適用于直徑達4英寸的晶圓） | MPEM-12M （適用于直徑達6英寸的晶圓） | MPEM-1600 （適用于直徑達8英寸的晶圓） |
MPEM系列是高精度雙視野紫外曝光機，包括在頂部的對準光學系統和在底部的晶圓，因此裝頂部表面可進行接觸、軟接觸和接近圖案，在底部晶圓可校準圖案。高分辨率光學系統，在頂側和底側安裝了對稱的10X物鏡，因此可精確對準以掩模和晶圓。成對的物鏡之間的間隔距離可以調節，所以可以自由地對準不規則形的晶圓。
* 除了上述這些，還有機動型MPEM-2000/4000和全自動型MPEM-8M/12M 。
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