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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>有掩模光刻機> Model 6000 生產型掩膜曝光機

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Model 6000 生產型掩膜曝光機

具體成交價以合同協議為準

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聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


 

FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料學博士共同創辦的德國公司。基于 Science is international”的想法,“全球協同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學家到科學家,科學開創美好未來。

FIRSTNANO深耕于半導體技術、材料科學、生命科學等科研領域,始終秉承“前沿、專業、科學”的宗旨,將前沿技術引進到協同實驗室。我們的產品覆蓋了微納加工制程;材料科學的檢測、分析;生命科學成像,腦科學與行為認知等相關領域。作為全球科技前沿的儀器供應商,FIRSTNANO具有全球技術視野、優質供應體系、以及嚴格的質量管控系統,能為客戶提供前沿的技術解決方案。

公司服務的客戶領域廣泛,其中包括消費電子、航空、航天、醫藥技術、半導體行業、光電子行業、高校和研究機構。

在成長的過程中,我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港(中華區)公司成立以來,我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設立了分支機構。

我們真誠邀請業內英才加入FIRSTNANO TEAM,一起為夢想揚帆起航!

 

 

 

 

 

半導體儀器和電子產品耗材耗材

Model 6000 生產型掩膜曝光機

Model 6000 生產型掩膜曝光機

在半導體行業擁有超過 40 年的制造經驗,OAI 憑借全新精英級生產型光刻設備,從容應對瞬息萬變的市場所帶來的日益嚴峻的挑戰。6000 系列基于經過驗證的 OAI 模塊化平臺打造而成,是一套全自動盒對盒系統,具備亞微米分辨率,其性能在同價位設備中很高。


該對準器配備優良的光束光學系統,均勻性優于 ±3%,且在首掩模模式下的吞吐量可達 200 片晶圓 / 小時,從而顯著提高良率。


6000 型設備能夠處理多種類型的晶圓,包括厚基板、鍵合基板(厚度可達 7000 微米)、翹曲晶圓(翹曲度可達 7 毫米 - 10 毫米)、薄基板(厚度低至 100 微米)以及厚光刻膠。


憑借工藝重復性,6000 型設備成為各類生產環境的理想解決方案。可選擇正面對準,或選裝背面對準 —— 背面對準采用康耐視(Cognex™)M 圖案識別軟件與 OAI 的圖案輔助軟件,這款軟件能進一步提升整體吞吐量。在整個光刻流程中,6000 型設備可與集群工具實現無縫集成。OAI 全新的生產型掩模對準器堪稱一站式解決方案。


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高度優化的產能
首掩模模式下可達 200 片 / 小時(WPH)


優良的光束光學系統
均勻性優于 ±3%


豐富的晶圓處理能力
包括厚基板、鍵合基板及翹曲基板


楔效應調平

工藝重復性

亞微米分辨率

遠程診斷功能


Model 6000 生產型掩膜曝光機

Model 6000 生產型掩膜曝光機規格參數


曝光系統

Model 6000 生產型掩膜曝光機

優良光束光學系統

Model 6000 生產型掩膜曝光機

對準系統

Model 6000 生產型掩膜曝光機


晶圓處理

Model 6000 生產型掩膜曝光機


可選配置

紅外自動對準

晶圓盒映射

紫外 LED 曝光光源

溫控晶圓卡盤

集成掩模管理控制

集成光刻集群用于完整光刻流程

帶 SMIF 或 FOUP 接口模塊的工藝環境控制

非接觸式調平

邊緣夾持

激光間隙測量





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