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非接觸厚度TTV測試儀

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厚度TTV非接觸晶圓硅片

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公司成立于2021年,是一家注冊在蘇州、具備技術(shù)的非接觸式半導(dǎo)體檢測分析設(shè)備制造商。公司集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售于一體,主要攻克國外壟斷技術(shù),替代進(jìn)口產(chǎn)品,使半導(dǎo)體材料測試設(shè)備國產(chǎn)化。

主要產(chǎn)品:非接觸式無損方塊電阻測試儀、晶圓方阻測試儀、方阻測試儀、硅片電阻率測試儀、渦流法高低電阻率分析儀、晶錠電阻率分析儀、渦流法電阻率探頭和PN探頭測試儀、遷移率(霍爾)測試儀、少子壽命測試儀,晶圓、硅片厚度測試儀、表面光電壓儀JPV\SPV、汞CV、ECV。碳化硅、硅片、氮化鎵、襯底和外延廠商提供測試和解決方案

憑借*的技術(shù)和豐富的產(chǎn)品設(shè)計(jì)經(jīng)驗(yàn)申請各項(xiàng)知識產(chǎn)權(quán)20余項(xiàng),已發(fā)展成為中國大陸少數(shù)具有一定國際競爭力的半導(dǎo)體專用設(shè)備提供商,產(chǎn)品得到眾多國內(nèi)外主流半導(dǎo)體廠商的認(rèn)可,并取得良好的市場口碑。





晶圓電阻率測試儀,硅片電阻率測試儀,渦流法低電阻率分析儀,晶錠電阻率分析儀,遷移率測試儀,少子壽命測試儀

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,能源,電子/電池,電氣,綜合

非接觸式無損測厚儀采用的工作原理是光熱紅外法。利用光源照射物體表面,通過對激勵光源進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)制,在材料中產(chǎn)生熱波,光源激發(fā)的熱量通過熱波在涂層中向深處傳播,這一熱波在涂層與基材的邊界處反射并最終傳播出涂層以紅外熱輻射的形式被探測器接收。涂層越厚,該過程花費(fèi)的時(shí)間越長。因此利用紅外探測器探測紅外熱輻射(相移)的信號就可以獲得涂層的厚度信息。由于表征涂層厚度(或其他參數(shù))的不是信號幅度而是信號相位,即輻射熱波相對于激發(fā)光波的時(shí)間偏移,因此這種測量方式對測量距離或探測角度的變化不敏感。這樣,可以非常高精度地測量涂層厚度和面密度。光熱紅外法測量的精度在亞微米范圍內(nèi),通常比目前工業(yè)上常用的測量方式要精確得多。

能夠測量直徑為50mm、75mm、100mm、150mm、200mm和300mm的晶圓。其厚度范圍根據(jù)晶圓直徑的不同而有所差異。例如,對于無框晶圓,其測量范圍可能是200\~1000μm或300\~1800μm;而對于鑲框晶圓,測量范圍可能達(dá)到0\~1100μm。

測量精度方面的厚度精度可以達(dá)到±0.5μm,分辨率高達(dá)10 nm,動態(tài)范圍達(dá)800μm。這樣的精度保證了測量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性,滿足了半導(dǎo)體行業(yè)對高精度測量的需求。




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