X射線檢測是利用X射線技術觀察、研究和檢驗材料微觀結構、化學組成、表面或內部結構缺陷的實驗技術。

X射線應用于工業無損探測，主要原理是穿透被測物的X射線具有反映被測物內部結構的信息，人們通過X射線強度的變化及分布來檢測與評判材料或工件內部各種宏觀或微觀缺陷的性質、大小及分布情況，進而判定被檢對象所處技術狀態，比如是否合格、剩余壽命等。

微焦點X射線源：為滿足高精度檢測要求，須配置微米級、納米級焦點尺寸X射線源，即微焦點X射線源，根據密封方式的不同，分為開管微焦點X射線源和閉管微焦點X射線源（開管式微焦點X射線源可實現更小的焦點尺寸、更高的射線錐角和更高的管電壓，但價格更貴、壽命更短），微焦點 X 射線源主要應用于集成電路、電子制造、新能源電池等精密制造領域，技術難度且國產化率低。 閉管 X 射線源中，陰極與陽極/ 靶都封閉在真空管內。在使用時無需抽真空，閉管方式的 X 射線管高壓一般在 30kV-150kV 之間（靶功率75W），通常生命周期約為3年；而開放式X射線管高壓在30kV-225kV （靶功率25W）之間。前者常見于集成電路及電子制造和新能源電池領域，后者主要集中在集成電路領域。

大功率射線源：主要應用于對于穿透能力要求更高同時兼顧一定精度要求的工業和醫療檢測領域，包括航天、汽車、船舶、鋼鐵、石油鉆探、工程機械、管道、地質、考古、安檢、醫療等各行業，技術難度較高且國產化率低。

普通射線源：主要 應用于對檢測精度要求不高的公共安全和異物檢測等領域，整體國產化率較高。

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