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SPECTROS™ 150 有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司是集半導(dǎo)體儀器裝備代理及技術(shù)服務(wù)的高新技術(shù)企業(yè)。

致力于提供半導(dǎo)體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導(dǎo)體分析測試設(shè)備、半導(dǎo)體光電測試儀表及相關(guān)儀器裝備維護(hù)、保養(yǎng)、售后技術(shù)支持及實(shí)驗(yàn)室整體服務(wù)。

公司目前已授實(shí)用新型權(quán)利 29 項,軟件著作權(quán) 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機(jī),納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

Kurt J. Lesker Company 的 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺在全球擁有100多臺設(shè)備,是一種成熟、堅固和多功能的設(shè)計。SPECTROS建立在原始設(shè)計的成功基礎(chǔ)上,改進(jìn)了系統(tǒng)基礎(chǔ)壓力和抽空時間。腔室設(shè)計、具有高級編程功能的行業(yè)最佳軟件控制系統(tǒng)、實(shí)時配方線程操作以及用于優(yōu)化薄膜性能的眾多功能,這些都是這種創(chuàng)新的設(shè)計提供的一些關(guān)鍵優(yōu)勢。®

SPECTROS 150與以下技術(shù)兼容:

  • 1cc 或 10cc LTE 信號源(除熱源外,最多 10 個信號源)

  • 4 英寸熱源(除 LTE 源外,最多 4 個源)

  • TORUS 磁控濺射源(最多 8 個 2“ 或 3” 源)®

  • 電子束蒸發(fā)源(4口袋8cc,8口袋12cc,6口袋20cc)

  • 上述技術(shù)的組合也可用

  • 可根據(jù)要求提供定制配置

SPECTROS™ 150 的工藝室提供兩種類型的高真空泵:標(biāo)配 Pfeiffer 790 L/s 渦輪分子泵或可選的 Brooks CTI-8F 1500 L/s 低溫泵。SPECTROS 150的任何沉積配置都可以選擇這兩種泵。Pfeiffer 790 L/s 是總體成本效益、高質(zhì)量泵送的理想選擇,尤其適用于低溫和熱蒸發(fā)。Brook CTI-8F 可用于需要盡可能低真空度的應(yīng)用,特別是熱蒸發(fā)和電子束應(yīng)用。

右邊的圖表顯示了配備的 SPECTROS 150 工藝室按泵類型劃分的平均預(yù)期泵送性能,該工藝室清潔干燥,安裝了 (5) TORUS 3“ Mag-keeper 源和 3 英尺長的 1.5 英寸金屬柔性波紋管粗加工線。





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