1. 產品概述

Shale® C系列電感耦合等離子體化學氣相沉積設備（ICP-CVD）是一款先進的薄膜沉積設備，它結合了電感耦合（ICP）和電容耦合（CCP）技術，為用戶提供了一種高效、可靠的薄膜沉積解決方案。

該設備通過高密度等離子體的產生，實現了極低的沉積溫度，這不僅能夠保護基材，減少熱損傷，還能確保薄膜的高致密性與優(yōu)異的填充能力。該工藝適用于多種材料的沉積，尤其是在對薄膜質量有高要求的應用中表現。

此外，Shale® C系列設備采用了符合國際標準的零部件，這些組件是8英寸產線設備中的常用標準部件，確保了設備的兼容性與可維護性。設備的設計遵循SEMI的嚴格標準，確保其在半導體行業(yè)中的穩(wěn)定運行及高度可靠。

在產品性能方面，Shale® C系列經過了一系列嚴格的穩(wěn)定性和可靠性測試，驗證了其在長時間連續(xù)運行下的表現。這使得該設備成為制造過程中的理想選擇，適合用于大規(guī)模生產和研發(fā)實驗。

2. 系統特性

可在低溫（<120°C）下沉積高致密薄膜，其致密性不亞于LPCVD在750°C生長的薄膜

可有效降低等離子體損傷，從而降低漏電，漏電流密度與原子層沉積（ALD）制備的薄膜相當

可提供高深寬比薄膜填充工藝

可選8/6英寸電，適用于不同尺寸的晶圓