Haasrode® Avior® A 電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設備

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CCP

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

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冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發

電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設備

1. 產品概述：

CCP腔室適用于制造微納結構的等離子刻蝕技術。在反應離子刻蝕過程中，等離子體中會包含大量的活性粒子，與表面原子產生化學反應，生成可揮發產物后，隨真空抽氣系統排出。魯汶儀器的 Haasrode® Avior® A 在性價比和空間利用率上優點突出，可提供各種不同材料的刻蝕解決方案。

單腔室電容耦合等離子體（CCP）機適用于光刻膠殘膠去除（打底膜）、介質刻蝕等工藝可用于6英寸及以下晶圓

2. 系統特性

單腔室電容耦合等離子體（CCP）機臺

適用于光刻膠殘膠去除（打底膜）、介質刻蝕等工藝

可用于6英寸及以下晶圓