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原子層沉積系統(tǒng)

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  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間 2024/7/10 13:48:33
  • 訪問(wèn)次數(shù) 961

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導(dǎo)體材料研究分析設(shè)備的研發(fā)和應(yīng)用。專業(yè)的團(tuán)隊(duì),專精的服務(wù),提供理想的解決方案。

我們長(zhǎng)期專注于半導(dǎo)體材料研究與分析設(shè)備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導(dǎo)向,用科技來(lái)解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國(guó)的科研領(lǐng)域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長(zhǎng)期代理銷售供應(yīng)多種分子材料的研究分析設(shè)備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應(yīng)耦合等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機(jī)、等離子清洗機(jī)、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學(xué)顯微鏡以及實(shí)驗(yàn)室設(shè)備儀器。

客戶至上的服務(wù)理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務(wù)!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來(lái)!

 

半導(dǎo)體材料分析,材料刻蝕

應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,電子/電池

原子層沉積系統(tǒng)ALD 用於薄膜沉積的原子層沉積是基於順序使用氣相化學(xué)過(guò)程的最重要技術(shù)之一;它可以被視為一種特殊類型的化學(xué)氣相沉積(CVD)。多數(shù)ALD反應(yīng)使用兩種或更多種化學(xué)物質(zhì)(稱為前驅(qū)物,也稱為“反應(yīng)物”)。這些前驅(qū)物以一種連續(xù)的且自我限制的方式,一次與一種材料的表面反應(yīng)。通過(guò)多個(gè)ALD循環(huán),薄膜被緩慢沉積。 ALD為製造半導(dǎo)體元件的重要製程,並且是可用於合成納米材料主要工具的一部分。

原子層沉積系統(tǒng)ALD具有許多優(yōu)點(diǎn),例如出色的均勻性,在複雜形狀的基板表面上沉積的具有相同膜厚的膜保形性,低溫處理。因此,ALD被應(yīng)用於微電子,納米技術(shù)和生物技術(shù)領(lǐng)域中,這些領(lǐng)域經(jīng)常在有機(jī)和生物樣品之類的軟基底。上工作。


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