Super Lithography 3D 飛秒激光三維直寫光刻設備（無掩模光刻機）

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光刻機無掩模光刻激光直寫光刻

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公司介紹 主營產品

上海津鐳光電科技有限公司是一家集光電產品與設備研發，銷售的技術企業。目前公司已經與北京大學、南開大學、中國科學技術大學、華中科技大學與華東師范大學等高校合作，共同建立激光應用（光量子芯片、光纖光柵、微納器件、量子精密測量）實驗室，并由多位教授擔任技術顧問。

津鐳光電主要業務集中于超快微納加工（三維光量子芯片制備、布拉格光纖光柵、硬脆材料鉆孔切割）、超快泵浦探測、實時成像及器件光譜響應測試等系統搭建和光電產品銷售兩方面業務。

展開

超快激光微納加工系統

應用領域	電子/電池	重復定位精	< 2 nm
最小線寬	150nm	單次加工尺寸	300×300×300um

Super Lithography 3D 納米光刻系統提供納米級高精度的無掩膜光刻和納米級3D 微納結構打印，配合定制的軟件系統，可以智能完成高精度無掩膜光刻的制造和其它納米級 3D 器件的激光直寫光刻。

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主要系統：飛秒激光直寫系統、無掩膜光刻系統、光場調控系統、太赫茲產生系統、光場時空整形系統、光譜響應測試系統與二維材料剝離系統；光電產品：飛秒/皮秒激光器、激光光源、光學元件、光學機械、光學平臺與精密運動位移臺等光電產品。