產地類別 | 進口 | 價格區間 | 面議 |
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應用領域 | 生物產業,電子/電池 | 波長范圍 | 1280-1340nm |
光源 | 200KMTBFSLED | 厚度測量范圍n=1.5 | 15um-2mm |
厚度測量范圍n=3.5 | 7um-1mm | 光斑大小 | 標準工作距離53mm |
測量精度 | 5nm2 |
Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀
Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產品介紹:
Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀利用光譜反射原理,可以測量厚度達到3毫米的眾多半導體及介電層薄膜。相對于較薄的膜層,這種厚膜的表面較粗糙且不均勻,F3-sX系列膜厚儀配置10微米的測量光斑,從而可以容易地測量其他膜厚測量儀器不能測量的膜層,并且僅在幾分之一秒內完成。F3-sX膜厚儀在Si晶圓厚度測量、護涂層、IC芯片失效分析、厚光刻膠等方面優異表現。
Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產品特點優勢:
非接觸測量:避免損傷薄膜,適用于脆弱或敏感材料;
多場景適用性:基本上光滑的、半透明的或低吸收系數的薄膜都可以測量。
測量速度快:配置完成后,數秒內即可完成測量。
采用近紅外光(NIR)來測量膜層厚度,因此可以測試一些肉眼看是不透明的膜層
配件包括自動繪圖平臺、測量點可視化攝像機,和可見光擴展波段選項
Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產品測量原理:
當入射光穿透不同物質的界面時將會有部分的光被反射,由于光的波動性導致從多個界面的反射光彼此干涉,從而使反射光的多波長光譜產生震蕩的現象。從光譜的震蕩頻率,可以判斷不同界面的距離進而得到材料的厚度(越多的震蕩代表越大的厚度),同時也能得到其他的材料特性如折射率與粗糙度。
Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產應用與膜層范例:
薄膜特性:厚度、反射率、透射率、光學常數、均勻性、刻蝕量等
薄膜種類:透明及半透明薄膜,常見如氧化物、聚合物甚至空氣
薄膜狀態:固態、液態和氣態薄膜都可以測量
薄膜結構:單層膜、多層膜;平面、曲面
Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產品常見工業應用:
Filmetrics F3-sX 光學厚膜測厚儀產品參數:
波長范圍: | 1280-1340nm | 光源: | 200KMTBFSLED |
厚度測量范圍n=1.5: | 15um-2mm | 厚度測量范圍n=3.5: | 7um-1mm |
光斑大小: | 標準工作距離53mm | 測量精度: | 5nm2 |