Zeta-20 KLA 白光共聚焦顯微鏡
- 公司名稱 優(yōu)尼康科技有限公司
- 品牌 KLA-Tencor
- 型號 Zeta-20
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2025/8/14 15:39:29
- 訪問次數(shù) 3734
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 產(chǎn)品種類 | 非接觸式輪廓儀/粗糙度儀 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 面議 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件 |
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡

KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品介紹:
KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡基于ZDot技術(shù)而來。Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡可以對大部分材料和結(jié)構(gòu)進行成像分析,從光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。KLA Zeta-20白光共聚焦顯微鏡使用模塊化設(shè)計理念,為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項來滿足各種不同的測量需求,所有硬件安裝和操作都簡單易用。
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品特點:
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Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡提供多種光學測試技術(shù),以滿足用戶各種不同領(lǐng)域的測試需求。
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ZDotZ點陣三維成像技術(shù)是Zeta所有系列產(chǎn)品的標配技術(shù),Z點陣的明暗場照明方案結(jié)合不同物鏡幫助客戶測量“困難”的表面。
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ZIC干涉反襯成像技術(shù),實現(xiàn)納米級粗糙度表面的成像及分析。
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ZSI白光差分干涉技術(shù),垂直方向分辨率可達埃級。
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ZI 白光干涉技術(shù),大視場下納米級高度的理想測量技術(shù)。
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ZFT反射光譜膜厚分析技術(shù),集成寬頻反射光譜分析儀,可測量ULA+ 2et-20薄膜材料的厚度、折射率和反射率。
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品優(yōu)勢:
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重復(fù)性和再現(xiàn)性
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接觸式測量,適用于多種材料
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測量軟材料的微力控制
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梯形失真校正可大幅度減少側(cè)視圖造成的失真
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弧形校正補償探針的弧形運動
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品測量原理:
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡的原理是通過共聚焦原理實現(xiàn)樣品的高分辨率、高對比度的光學切片能力。它結(jié)合了傳統(tǒng)光學顯微鏡和激光共聚焦顯微鏡的特點,利用寬譜白光作為光源,通過空間濾波機制消除離焦光干擾,從而獲得高精度的三維圖像。
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡主要應(yīng)用:
| 臺階高度 | 紋理 |
| 外形 | 應(yīng)力 |
| 薄膜厚度 | 缺陷檢測 |
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡產(chǎn)品參數(shù):
| ZDOT | ZI | ZIC | ZSI | ZFT | |
| 粗糙度:> 40nm | ● | ||||
| 粗糙度:<40nm | ● | ||||
| 大視場、Z方向高分辨率 | ● | ||||
| 15nm-25mm臺階高度 | ● | ||||
| 5nm-100µm臺階高度 | ● | ||||
| <10nm 臺階高度 | ● | ||||
| 缺陷:尺寸 <1µm,高度 <75nm | ● | ● | ● | ||
| 缺陷:尺寸 >1µm,高度 >75nm | ● | ||||
| 30nm<薄膜和厚度 <15µm | |||||
| 薄膜厚度 >15µm | ● |
KLA Zeta-20 白光共聚焦顯微鏡測量圖:

自動缺陷檢查

臺階高度



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