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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>實驗室常用設(shè)備>恒溫/加熱/干燥>馬弗爐/電阻爐/實驗爐>GSL-1700X-MGI-4 小型4通道管式爐(爐管直徑25mm,溫度1700℃)

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GSL-1700X-MGI-4 小型4通道管式爐(爐管直徑25mm,溫度1700℃)

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  合肥科晶材料技術(shù)有限公司成立于1997年,是由一群來自麻省理工學(xué)院和加州大學(xué)伯克利分校的材料研究人員創(chuàng)辦的美國MTI公司與中科院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院合資興辦的高新技術(shù)企業(yè)。主要生產(chǎn)氧化物晶體(A--Z)和材料實驗室成套設(shè)備:包括“混料-壓料-燒料”(混料機、壓片機、箱式爐、真空管式爐)以及“定向-切割-研磨-拋光”(X射線定向儀、低速外圓鋸、金剛石線切割機、自動研磨、拋光機)。公司自主研發(fā)生產(chǎn)上百款不同規(guī)格尺寸、溫度、高溫高壓及快速升溫等產(chǎn)品,其中包括:箱式爐、氣氛爐、管式爐、井式爐、RTP快速升溫爐、高溫高壓爐、鍍膜機、清洗劑及新能源鋰離子電池研發(fā)等相關(guān)實驗室設(shè)備。現(xiàn)已成為氧化物晶體(A--Z)的主要制造商和材料研究實驗室設(shè)備的*,為科研工作者提供材料研究解決方案。產(chǎn)品設(shè)計*、性能優(yōu)異,質(zhì)量可靠,性價比高,環(huán)保節(jié)能、返修率低,遠(yuǎn)銷到歐洲,美國,日本,德國等許多國家,廣泛應(yīng)用于物理、化學(xué)、冶金、醫(yī)學(xué)、新能源材料研發(fā)等領(lǐng)域,受到客戶*好評。
 
  科晶公司秉承"以人為本、技術(shù)為導(dǎo)、誠信為基、積極創(chuàng)新"的經(jīng)營理念,全力打造材料研發(fā)設(shè)備的品牌,竭力為科學(xué)進步和社會發(fā)展做出貢獻。
 

真空管式爐,高溫箱式爐,高速震動球磨機,RTP快速退火爐,高溫高壓爐,涂覆機,電池制備設(shè)備等

 GSL-1700X-MGI-4是一款小型4通道管式爐,其爐管直徑為Φ25mm,針對于高通量熱處理實驗。特別是對于合金和陶瓷熱處理,其zui高溫度可以達到1700℃。對于在材料基因計劃中探索材料相圖是非常好的實驗工具。

 

技術(shù)參數(shù)

爐體結(jié)構(gòu)

  • 爐體由4個小管式爐組成,采用氧化鋁爐管,尺寸為25 OD x 22 ID x 460 L, mm 
  • 每個加熱模塊都由獨立的溫控系統(tǒng)控制,zui高溫度可達1700℃
  • 快速密封法蘭,安裝有機械真空壓力表,進氣端安裝有浮子流量計,樣品可在真空或氣氛保護環(huán)境下進行熱處理
  • 可同時放入4個樣品,在不同溫度下進行熱處理
  •   

加熱元件

硅鉬棒

工作溫度&恒溫區(qū)

  • 連續(xù)工作溫度1600°C
  • zui高工作溫度 1700°C (< 1 hrs)
  • 恒溫區(qū):  30mm(+/- 1°C ),60mm(+/- 5°C)

爐管

  • 高純氧化鋁爐管:Φ25X L 460 mm,4根
  • 4個浮子流量計
  • 快速連接法蘭,KF25真空接口
  • 真空度:10-5 torr(采用分子泵)
  • 有一真空泵接口(KF25),可在本公司購買各種真空泵
  •   

溫度控制

 

  • 采用觸摸屏設(shè)置溫度程序,帶有超溫和斷偶保護
  • 4個溫區(qū)分別由4個獨立的溫控系統(tǒng)控制
  • 4根B型熱電偶
  • 可用電腦設(shè)置和顯示溫度程序

zui高加熱速率

10°C/ min

控溫精度

+/- 1°C

淬火(可選)

  • 此管式爐可升級為立式淬火爐(加上旋轉(zhuǎn)機構(gòu)和淬火劑罐)

功率,工作電壓

6 KW, 208 - 240V單相,  50/60Hz 

質(zhì)量認(rèn)證

  •  
  • CE認(rèn)證
  • 所有電器元件(>24V)都通過UL / MET / CSA認(rèn)證
  • 若客戶出認(rèn)證費用,本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證
  •        

產(chǎn)品尺寸

  • 1000 L x 650 W x 640  H, mm 
  •   
質(zhì)保

一年質(zhì)保期,終生維護(不包含爐管,密封圈和加熱元件)

警告 & 應(yīng)用注意

  • 此管式爐,只可在真空或常壓狀態(tài)使用,爐管內(nèi)的相對氣壓不可大于0.02MPa
  • 進氣流量<200 SCCM ( 200ml/min)
  • 向爐管內(nèi)通氣的氣瓶上必須安裝雙級減壓閥(可在本公司購買)
  • 可選購本公司的供氣系統(tǒng),可用于進行CVD實驗


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