氮化硅陶瓷基板氣壓制備設備用途及特點：

氮化硅陶瓷基板的氣壓燒結成型。

(1)臥式結構，由爐體，加熱裝置，真空系統、氣氛控制系統等組成。

(2)爐殼材料采用16MnR壓力容器鋼或304不銹鋼。

(3)發熱體采用等靜壓石墨，保溫層采用石墨氈，碳碳深積纖維復合材料等制成。

(4)配有進口高壓氣體質量流量計，實現動態工藝氣氛下的穩定燒結。

(5)高壓氣氛下紅外精確控制爐溫技術，特殊的紅外吹掃結構，確保在最溫度2100℃(不超過2MPa)長期穩定燒結。

氮化硅陶瓷基板氣壓制備設備主要規格：

設計溫度2100℃、真空Pa、裝料區尺寸有（長寬高）：400×250×250mm、500×450×450mm、1250×500×500mm、1400×600×600mm