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產      地:
鄭州
所在地區:
河南鄭州市
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本設備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀,樣品臺與靶面的角度可調,可用于制作特定生長角度的薄膜。設備外形為桌面級別,大大減少了安裝場地需求。設備配有一個直流電源,可用于金屬及其他導電材料的濺射。設備真空系統采用渦輪分子泵組,抽氣速度快,極限真空度高,真空性能優異。本設備結構緊湊功能完善便于使用,非常適合用于各類鍍膜試驗。  

傾斜樣品臺式單靶磁控技術參數:

產品名稱  

傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀  

產品型號  

CY-MSZ180-60Q-I-DC-Q  

樣品臺  

外形尺寸  

φ60mm  

加熱溫度  

500  

可調轉速  

20rpm  

磁控靶槍  

配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm  

真空腔體  

腔體尺寸  

φ180mm X215mm  

觀察窗口  

全向透明  

腔體材料  

高純石英  

開啟方式  

上蓋拆卸式  

真空系統  

前級泵  

低噪音雙極旋片泵  

分子泵  

低噪音大抽速渦輪分子泵  

真空測量  

復合真空計,量程:10-5~105Pa  

抽氣接口  

KF16  

抽氣接口  

KF40  

排氣接口  

KF16  

系統真空  

1.0×10-4Pa  

供電電源  

AC   220V 50/60Hz  

抽氣速率  

分子泵抽速600L/s,前級泵抽速1.1L/s    

電源配置  

電源數量  

直流電源一套  

輸出功率  

500W  

 

其他參數  

供電電壓  

AC220V,50Hz  

整機功率  

2kW  

整機尺寸  

550mm   X 350mm X400mm  

 





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