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賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀
  • 賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀
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貨物所在地:上海

地: 英國

更新時間:2025-02-17 10:03:44

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賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀可進行全自動、高通量的表面分析,提供用于推進研發或解決生產問題的數據。 集成 XPS 與離子散射譜(ISS)、紫外光電子能譜 (UPS)、反射電子能量損失譜(REELS)和拉曼光譜,讓您進行真正的聯用分析。

賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀標準化性能:

·         絕緣體分析

·         高性能XPS性能

·         深度剖析

·         多技術聯合

·         雙模式離子源,使深度剖析功能得到擴展

·         用于 ARXPS 測量的傾斜模塊

·         用于儀器控制、數據處理和報告生產的 Avantage 軟件

·         小束斑分析

可選的升級:可將多種分析技術集成到您的檢測分析中。式自動運行

·         ISS:離子散射譜,分析材料表面1-2原子層元素信息,通過質量分辨可分析一些同位素豐度信息。

·         UPS:紫外光電子能譜用于分析金屬/半導體材料的價帶能級結構信息以及材料表面功函數信息

·         拉曼:拉曼光譜技術用于提供分子結構層面的指紋信息

·         REELS:反射電子能量損失譜可用于H元素含量的檢測以及材料能級結構和帶隙信息


賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀應用領域

·         電池

·         生物醫藥

·         催化劑

·         陶瓷

·         玻璃涂層

·         石墨烯

·         金屬和氧化物

·         納米材料

·         OLED

·         聚合物

·         半導體

·         太陽能電池

·         薄膜


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