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G&P Technology成立于1999年，正如其名稱“研磨和拋光”所暗示的那樣，致力于為大學、研發組織和MEMS公司提供精確且負擔得起的CMP（化學機械拋光）系統和服務。G&P Technology與亞洲、歐洲和美國的CMP實驗室合作，包括許多大學和MEMS研發廠的CMP實驗室。G&P Technologies還為耗材制造商提供咨詢和評估服務，以改進和開發其CMP應用產品。G&P Technology還執行政府和私營部門的研究項目，為大學和研發社區提供下一代工藝系統和特殊應用開發。全球已安裝了100多個用于研究和開發的系統。最近，一個由12英寸POLI-762和Cleaner-812L組成的集成系統，后CMP清洗系統已在研發和半生產線上得到廣泛應用。G&P Technology希望繼續在CMP領域提供用戶友好的智能系統。