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利用NexION 2000S ICP-MS測試9.8%硫酸中超痕量鈦、釩、鉻和鋅

閱讀:836      發布時間:2020-03-24
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    半導體用高純硫酸中此類金屬雜質的含量在100ppt以下,這樣的含量是可以直接用ICP-MS檢測的,但98%的硫酸粘度比較大,直接引入ICP-MS會有問題,必須稀釋10倍以上。所以實際上需要能穩定檢測10ppt以下此類金屬的高靈敏度ICP-MS, Ti、V、Cr及Zn需要克服超痕量檢測的極限,同時要消除以SO+、S3+、HSO+、ArS+為代表的硫的干擾。

 

    本應用的目的是驗證NexION 2000S對半導體工藝中廣泛應用于清除硅片表面高分子有機污染物的高純硫酸中Ti.、V、Cr、Zn的檢測能力。于半導體高純樣品分析的NexION 2000S為了能消除硫引起的干擾、在10ppt以下獲得穩定的分析結果,通過利用DRC功能直接去除硫的干擾或運用氨質量轉移(M++ NH3-→M-NH3+)方法,從硫酸中檢測出Ti、V.Cr及Zn。

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珀金埃爾默企業管理(上海)有限公司

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