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　　激光粒度測試儀的測量原理：

　　當(dāng)光束前進過程中遇到顆粒時，將發(fā)生散射現(xiàn)象，散射光與光束初始傳播方向形成一個夾角θ，散射角的大小與顆粒的粒徑相關(guān)，顆粒越大，產(chǎn)生的散射光的θ角就越小;顆粒越小，產(chǎn)生的散射光的θ角就越大。這樣，測量不同角度上的散射光的強度，就可以得到樣品的粒度分布了。

　　隨著粉體技術(shù)的發(fā)展，對粒度分析儀的性能要求在逐步的提高，特別是粒度儀的量程要求越來越寬。測量下限要求達到幾百甚至幾十個納米，測量上限要求達到一千甚至幾千微米。這對新型激光粒度測試儀設(shè)計者提出了極大的挑戰(zhàn)。

　　顆粒越細，散射光的角度越小，微小顆粒的散射光甚至在360度范圍內(nèi)都有分布。為了拓展儀器的測量下限。需要有非常規(guī)的光學(xué)設(shè)計。顆粒越小，分布在360度空間范圍的散射光光強差越小，當(dāng)顆粒小到一定極限，光強差將小得幾乎難以被分辨出來。這時就到了激光粒度測試儀的測量下限了。光學(xué)設(shè)計上的障礙和散射光本身的特性決定了常規(guī)激光粒度測試儀的測量下限一般在0.02微米左右。當(dāng)顆粒較大時，同樣也會遇到技術(shù)困難。大顆粒的散射角度很小，不容易分辨和測量。要想有效分辨大顆粒的光強分布。可以簡單的拉長聚焦鏡頭的焦距(例如500甚至1000毫米以上)，但是焦距大將導(dǎo)致激光粒度測試儀的體積大幅增加，且非常不便于小顆粒的大角度散射光探測。同時對鏡頭的加工精度要求也會更高。這個技術(shù)難點使得常規(guī)設(shè)計的激光粒度測試儀的真實測量上限很難超過1200微米。